Stressfreier Weg zu spannungsfreien Metallfolien ebnet den Weg für Schaltungen der nächsten Generation

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Forscher der Tokyo Metropolitan University haben Hochleistungs-Impuls-Magnetronstreuung (HiPIMS) verwendet, um dünne Wolframfilme mit beispiellos niedriger Filmspannung zu erzeugen.Durch die Optimierung des Timings eines Substrat-Bias-Pulses mit Mikrosekunden-Präzision minimierten sie Verunreinigungen und Defekte, um kristalline Filme mit Spannungen von nur 0,03 GPa zu bilden, ähnlich denen, die durch Glühen erreicht werden.Ihre Arbeit verspricht effiziente Wege zur Herstellung von Metallfilmen für die Elektronikindustrie.

phys.org

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